Ti-containing hydrogenated carbon films fabricated by high-power plasma magnetron sputtering

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題名:	Ti-containing hydrogenated carbon films fabricated by high-power plasma magnetron sputtering
作者:	傅尹坤
貢獻者:	工學院機械工程學系
日期:	2012-01-01
上傳時間:	2026-04-23 15:31:26 (UTC+8)
出版者:	Nonferrous Metals Society of China;Department of Engineering Science and Ocean Engineering, National Taiwan University, Taipei%Department of Mechanical Engineering, National Central University, Chung-li%National Nano Device Laboratories, Hsinchu
摘要:	摘要： TG174.44; 为了改善类金刚石碳膜的性能,采用高功率等离子磁控溅射法将含钛非晶碳薄膜沉积在304不锈钢基材上,气源为C2H2-Ar混合气体,金属钛为阴极靶材.为了改善附着力和降低残余应力,制备了含Ti/TiC/DLC多层结构的镀膜.利用GDS、XRD、SEM、Raman光谱法、纳米压痕仪和盘-销摩擦计研究基材偏压及基材与靶材的距离对薄膜性能的影响.结果表明,薄膜具有优良的粘合强度和韧性. 出版者： Department of Engineering Science and Ocean Engineering, National Taiwan University, Taipei%Department of Mechanical Engineering, National Central University, Chung-li%National Nano Device Laboratories, Hsinchu 出版日期： 2012 出處：中国有色金属学报（英文版）, 2012, Vol.22 (6), p.1381-1386 資源來源： China Online Journals (COJ) 版權： Copyright © Wanfang Data Co. Ltd. All Rights Reserved. 識別號： ISSN: 1003-6326 識別號： DOI: 10.1016/S1003-6326(11)61329-0
顯示於類別:	[機械工程學系] 期刊論文

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