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    題名: 以反應式磁控濺鍍法製備p型氧化鎳透明導電膜;以反應式磁控濺鍍法製備p型氧化鎳透明導電膜
    作者: 王翊寧;Ning, Wang Yi
    貢獻者: 光電科學與工程學系
    關鍵詞: 反應式磁控濺鍍;氧化鎳;透明導電膜;Reactive Magnetron Sputtering;Nickel Oxide;Transparent Conductive Film
    日期: 2026-09-21
    上傳時間: 2026-10-20 18:31:17 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學
    摘要: 本研究利用直流反應式磁控濺鍍技術製備氧化鎳 p 型透明導電薄膜，系統性探
    討反應氧氣通量（1～50 sccm）、沉積功率、加熱處理（腔體加熱與後退火）以及
    膜層厚度對薄膜微結構、光學能隙、可見光穿透率及電學傳輸機制之調控。
    實驗結果顯示，氧化鎳薄膜之 ?
    顯示於類別:[光電科學研究所] 博碩士論文

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