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    題名: Abatement of PFCs from semiconductor manufacturing processes by nonthermal plasma technologies: A critical review
    作者: Chang MB,Chang JS
    貢獻者: 環境工程研究所
    關鍵詞: INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA;DIELECTRIC BARRIER DISCHARGES;ATOM-RADICAL KINETICS;GAS-PHASE;FLUE-GASES;REACTOR;CF4;PERFLUOROCOMPOUNDS;DECOMPOSITION;C2F6
    日期: 2006
    上傳時間: 2010-07-06 16:10:37 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: Emission of various hazardous air pollutants (HAPs) and greenhouse gases including perfluorocompounds (PFCs) from semiconductor industries, which individually may cause great impact on human health and the global environment, has attracted much public att
    關聯: INDUSTRIAL & ENGINEERING CHEMISTRY RESEARCH
    顯示於類別:[環境工程研究所 ] 期刊論文

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