Oxidative conversion of PFC via plasma processing with dielectric barrier discharges

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題名:	Oxidative conversion of PFC via plasma processing with dielectric barrier discharges
作者:	Yu,SJ;Chang,MB
貢獻者:	環境工程研究所
關鍵詞:	ABATEMENT;EMISSIONS;CF4
日期:	2001
上傳時間:	2010-07-06 16:14:30 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	Perfluorocompounds (PFCs) have been extensively used as plasma etching and chemical vapor deposition (CVD) gases for semiconductor manufacturing processes. PFCs have significant effects on the global warming and have very long atmospheric lifetimes. Labor
關聯:	PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
顯示於類別:	[環境工程研究所 ] 期刊論文

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