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    題名: Growth kinetics and related physical/electrical properties of Ge quantum dots formed by thermal oxidation of Si1-xGex-on-insulator
    作者: Lai,W. T.;Li,P. W.
    貢獻者: 電機工程研究所
    關鍵詞: SIGE/SI-ON-INSULATOR;VISIBLE PHOTOLUMINESCENCE;GERMANIUM NANOPARTICLES;SELECTIVE OXIDATION;NANOCRYSTALS;CONFINEMENT;MATRIX;MECHANISM;BEHAVIOR;E(1)
    日期: 2007
    上傳時間: 2010-07-06 18:17:20 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: SiGe-on-insulator ( SGOI) structures were thermally oxidized to form Ge quantum dots ( QDs) that are embedded in a SiO2 matrix, to systematically investigate possible structural factors that affect the properties of Ge QDs, such as size, density and even
    關聯: NANOTECHNOLOGY
    顯示於類別:[電機工程研究所] 期刊論文

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