Effects of ion energy on internal stress and optical properties of ion-beam sputtering Ta2O5 films

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題名:	Effects of ion energy on internal stress and optical properties of ion-beam sputtering Ta2O5 films
作者:	Tien,CL;Lee,CC
貢獻者:	光電科學與工程學系
關鍵詞:	PHASE-SHIFTING INTERFEROMETRY;THIN-FILMS;ASSISTED DEPOSITION;REFRACTIVE-INDEX;COATINGS
日期:	2003
上傳時間:	2010-07-07 14:14:07 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	The effects of ion-beam energy on the internal stress and optical properties of tantalum pentoxide (Ta2O5) thin film have been investigated. Ta2O5 thin films were deposited on unheated glass substrates by ion-beam sputter deposition (IBSD) with different
關聯:	JOURNAL OF MODERN OPTICS
顯示於類別:	[光電科學與工程學系] 期刊論文

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