Ultrathin TiO2 amorphous films for high transmittance APSM blanks at 157 and 193 nm wavelength simultaneously

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題名:	Ultrathin TiO2 amorphous films for high transmittance APSM blanks at 157 and 193 nm wavelength simultaneously
作者:	Lai,FD;Chang,CM;Wang,LA;Yih,TS
貢獻者:	物理研究所
關鍵詞:	SYSTEMS
日期:	2003
上傳時間:	2010-07-08 13:35:48 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	Ultrathin TiO2 amorphous films are deposited on ultraviolet grade fused silica substrates and CaF2 by using rf reactive unbalanced magnetron sputtering from a Ti metal target in atmosphere of Ar and O-2. For an O-2/Ar flow rate ratio of more than 1.5, the
關聯:	JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
顯示於類別:	[物理研究所] 期刊論文

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