紫外光及深紫外光濾光片之研製---總計畫:紫外光及深紫外光濾光片之研製; Research of Optical Interference Filters in UV and DUV Ranges

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題名:	紫外光及深紫外光濾光片之研製---總計畫:紫外光及深紫外光濾光片之研製;Research of Optical Interference Filters in UV and DUV Ranges
作者:	李正中
貢獻者:	光電科學研究所
關鍵詞:	紫外光薄膜;深紫外光薄膜;干涉濾光片;離子助鍍;紫外光退火;應力;非均向性;微觀結構;奈米微影;光電工程
日期:	2005-07-01
上傳時間:	2010-11-30 16:41:09 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	本研究計畫連結了理論、實驗與應用。理論研究之一在探究光在非均向性薄膜中其穿透與反射的強度與相位變化及如何應用之做成干涉濾光片；之二在研究強紫外光如何對薄膜進行輻射破壞及如何避免之，如此在如微影技術(Lithography)準分子雷射 (Excimer laser) 及二倍頻及多倍頻雷射中才具實用價值。實驗方面的研究在利用離子助鍍（IAD）、離子束濺鍍（IBSD）製鍍成光學薄膜，利用掃瞄式及穿透式顯微鏡(SEM 與TEM)觀測其微觀結構，再利用表面電漿激發儀、橢圓偏光儀以及干涉相移式應力量測儀量測其宏觀的光學與機械行為，包括非均向光學特性及應力，來找尋最佳的製鍍條件，以獲得優良特性的光學薄膜，除此之外，還可在多層膜上以電子束微影技術製作奈米結構，利用其所展現之雙折射性提升各種濾光片的光學成效(optical performance)。在應用方面則利用上述之經驗製鍍紫外光及深紫外光的光學系統所需之各種濾光片，如抗反射膜、高反射鏡、偏振分光鏡、帶通濾光片及相位片等。研究期間：9308 ~ 9407
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光電科學研究所] 研究計畫

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