紫外光及深紫外光濾光片之研製---紫外光及深紫外光薄膜光學特性之研究與濾光片之設計及製作(I); Research of Optical Thin Film in Ranges of UV and DUV and From Design Through Manufacture of UV and DUV Filters(I)

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題名:	紫外光及深紫外光濾光片之研製---紫外光及深紫外光薄膜光學特性之研究與濾光片之設計及製作(I);Research of Optical Thin Film in Ranges of UV and DUV and From Design Through Manufacture of UV and DUV Filters(I)
作者:	李正中
貢獻者:	光電科學研究所
關鍵詞:	紫外光薄膜;深紫外光薄膜;干涉濾光片;離子助鍍;紫外光退火;應力;非均向性;微觀結構;奈米微影;光電工程
日期:	2006-07-01
上傳時間:	2010-12-06 16:15:58 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	本計畫將以我們先前研究紫外光、可見光與近紅外光區鍍膜的經驗為基礎，第一年計畫執行至今，配合各子計畫之研究與量測選取氧化物與氟化物作為鍍膜材料，目前已完成氧化物（SiO2）與氟化物（MgF2、LaF3）等材料，在不同製鍍條件下，薄膜的物理特性（光學成效、機械特性）的研究，其中部分鍍膜已提供各子計畫作研究，有成果陸續發表中，在接下來的實驗裡，將對更多的氧化物（Al2O3、 HfO2）與氟化物（GdF3、AlF3），作製程的研究與特性的分析，在完成各材料特性後，將利用離子源、紫外光做薄膜輔助製鍍，利用加熱、紫外光做薄膜退火處理，以期對薄膜做改質的研究，進而改良薄膜的特性，使得薄膜的折射率穩定、吸收小以及應力獲得改善等效益，以利於接下來紫外光干涉濾光片的設計與製作。並且將配合子計畫二和子計畫三，分別著手從事多樣化非均向性奈米結構薄膜與奈米微影技術輔之以薄膜製程的研究，作理論與實驗結果的驗證。在各單層膜基本特性與助鍍、退火條件掌握後，將進行多層膜濾光片之設計與製鍍，配合子計畫一、二及子計畫三之研究與量測，對於單層鍍膜、奈米結構薄膜與多層薄膜濾光片之微觀結構、機械特性、非均向特性與奈米結構等做研究結合，藉由彼此間技術與心得交流，逐步完成高品質紫外光薄膜濾光片的製作與研究。待完成紫外光干涉濾光片後，進而將研究推展到深紫外光區，並完成深紫外光濾光片的設計與製作。KrF 與ArF 雷射對於紫外光與深紫外光濾光片損害也是研究探討的重點，以期提高雷射損壞閥值（Laser Damage Threshold），增加使用上的耐久性。本計畫各個階段研究進行中，將借助於子計畫一薄膜微結構分析與應力變化的量測，以利於釐清薄膜的特性，子計畫二非均向性的分析與奈米結構薄膜之理論與設計，並結合子計畫三奈米微影的技術，使薄膜與濾光片的光學成效達到最佳化，並創造出次世代的濾光片技術。研究期間：9408 ~ 9507
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光電科學研究所] 研究計畫

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