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    題名: 相對論性電漿之非線性模擬研究;Computational Study of the Nonlinearity of Relativistic Plasmas
    作者: 陳仕宏
    貢獻者: 物理學系
    關鍵詞: 電子磁旋脈射;強場雷射;電漿;粒子式模擬;非線性動態行為;物理類
    日期: 2007-07-01
    上傳時間: 2010-12-21 17:22:53 (UTC+8)
    出版者: 行政院國家科學委員會
    摘要: 本計畫的目的在於建立完整之粒子式電漿電腦模擬能力, 以應用於相對論性電漿之非線性問題的相關研究, 其中包括兩個研究主題: 1. 相對論性真空電子學: 在此研究主題中, 我們會應用自行發展之理論計算模型及模擬程式, 包括時變自洽大訊號理論、粒子式修正時變自洽大訊號理論, 以及完整粒子式電腦模擬程式﹐研究電子磁旋脈射機制中存在的不穩定現象以及其中所發生的非線性動態行為。 2. 強場雷射與電漿作用之研究: 研究子題包括單一能量電子被加速之物理機制以及相關電漿不穩定間之關連性以及所產生的效應。粒子式電腦模擬將會被用來研究電漿與強場雷射作用之非線性現象。 研究期間:9508 ~ 9607
    關聯: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    顯示於類別:[物理學系] 研究計畫

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