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    題名: 赤道上空電離層電漿上昇流速與電漿不規體發生機率的統計研究;Statistical Study of Longitudinal Variation in the Upward Plasma Flow Resulting in Occurrences of Density Irregularities
    作者: 蘇信一
    貢獻者: 太空科學研究所
    關鍵詞: 華衛一號;福衛一號;電漿不規體;電漿上昇流速;大氣科學類
    日期: 2008-07-01
    上傳時間: 2010-12-28 15:03:39 (UTC+8)
    出版者: 行政院國家科學委員會
    摘要: 1999 年3 月至2004 年6 月「華衛一號」(福衛一號)所收集的電離層電漿不規體的季節及經度分佈圖呈現電漿不規體大部份集中在-60°至60°的經度間。雖然高峰的出現與經度上磁力線的磁偏角有關係,但是無法圓滿解釋電漿不規體的發生都集中在-60°至60°的經度間。本計畫將從另一角度探索此問題。我們知道電漿不規體的發生與電離層在日落後(~18 LT)的電漿上昇速度有密切關係。這是因為上昇速度的大小,會影響Rayleigh-Taylor 不穩定的成長時間。所以我們以「華衛一號」離子的上昇速度作統計分析,研究「有電漿不規體」與「無電漿不規體」發生時,電漿上昇速度在18 LT 及19 LT 兩個時段的全球經度分佈。我們相信上昇速度在經度上的分佈變化一定會與不規體的發生分佈圖有密切的相關性。 研究期間:9608 ~ 9707
    關聯: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    顯示於類別:[太空科學研究所 ] 研究計畫

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