低損耗雷射鏡之研製

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題名:	低損耗雷射鏡之研製
作者:	李正中
貢獻者:	中央大學光電科學研究所
關鍵詞:	光電工程;離子濺鍍;薄膜;低損耗;雷射鏡;Ion-beam sputtering;Thin film;Low loss;Laser mirror
日期:	1996-09-01
上傳時間:	2012-10-01 15:00:02 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	本計劃擬以離子濺鍍法首先做些低損耗光學薄膜之研究.探討其組織及結構並選出其中較好之數種膜來組合成多層膜雷射鏡.在離子濺鍍法中我們會比較單離子束濺鍍及雙離子束濺鍍的優劣,以確定製膜方式,必要時會輔以鍍後處理.多層膜雷射鏡的損耗擬以 ring-down time 方式測量,預計研製出小於 100 ppm 以下的多層膜雷射鏡. ; 研究期間 8408 ~ 8507
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光電科學研究所] 研究計畫

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