高位移敏感度之全像多工光學儲存之研究

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題名:	高位移敏感度之全像多工光學儲存之研究
作者:	葉世博;She-Bo Yeh
貢獻者:	光電科學研究所
關鍵詞:	位移敏感度;位移多工;體積全像;光折變效應
日期:	2000-07-14
上傳時間:	2009-09-22 10:24:05 (UTC+8)
出版者:	國立中央大學圖書館
摘要:	本論文主要目的是研究位移多工之位移敏感度，位移多工有許多種方式，我們是以球面波為參考光，平面波為訊號光，比較二道光夾角90度及180度之位移敏感度。由於夾角90度架構的位移敏感度較高，因此針對90度架構的橫向及縱向位移敏感度再做進一步的研究，並發現當參考光之點光源斜向入射，對橫向及縱向位移敏感度會有所影響，我們依據位移敏感度影響的程度設計一點光源陣列，將可免除位移多工所必須之機械位移。在實驗過程中，我們遇到了齒輪間隙及實驗數據歸一化的問題，因此我們針對這二個問題設計了理想的實驗步驟與分析方法，以解決在實驗上所遇問題。 none
顯示於類別:	[光電科學研究所] 博碩士論文

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