射頻濺鍍紫外光氧化薄膜之研究

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题名:	射頻濺鍍紫外光氧化薄膜之研究
作者:	劉旻忠;Ming-Chou Liu
贡献者:	光電科學研究所
关键词:	射頻濺鍍;紫外光氧化薄膜;氧化鋁;二氧化矽;Rf-sputtering;UV-coating;Al2o3;Sio2
日期:	2000-07-06
上传时间:	2009-09-22 10:24:13 (UTC+8)
出版者:	國立中央大學圖書館
摘要:	本論文是使用多靶式磁控射頻濺鍍系統，濺鍍光學薄膜，著眼於Al2O3和SiO2兩種材料的濺鍍，主要探討不同真空度下波長在300nm∼400nm紫外光區其穿透率、折射率和消光係數等光學性質，另外對力學特性如薄膜應力、表面微觀結構如表面粗糙度等，以及薄膜的結晶性作研究和討論，並利用此兩種材料作光學薄膜的疊加設計與應用。希望能在紫外光區波長300nm~400nm 中製造出好的氧化薄膜，以便提供衛星遙測於紫外光區的光學技術應用。 none
显示于类别:	[光電科學研究所] 博碩士論文

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