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    題名: 大面積低溫微波電漿輔助化學氣象沉積薄膜之研究
    作者: 陳家豪;Chia-Hao Chen
    貢獻者: 光電科學研究所
    關鍵詞: 微波電漿;薄膜;大面積;Large-area;microwave plasma;thin film
    日期: 2002-07-10
    上傳時間: 2009-09-22 10:25:56 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 本實驗採用大面積化微波電漿輔助化學氣相沉積系統,研究沉積鑽石薄膜的最佳參數。本研究分為兩個階段,第一階段為改良天線陣列區Arc現象及測試系統的穩定度;第二階段,待系統穩定後,藉由改變系統總壓力及甲烷(CH4)、氫氣(H2)流量等參數,來研究對薄膜品質的影響。另外我們以拉曼散射光譜儀、X-ray繞射儀、掃描式電子顯微鏡及傅立葉紅外光譜儀來鑑定薄膜的特性。在氫氣(H2)流量300 sccm、甲烷(CH4)流量50 sccm、抽氣閥門控制開關在5%的位置、微波功率700W、鍍膜48小時,結果在電子顯微鏡下的表面顆粒結晶較多,經傅立葉紅外光譜儀分析沒有C-H鍵結,X-ray繞射儀沒有明顯的特性峰,薄膜表面結晶顆粒大約在10 nm ~ 20 nm之間。
    顯示於類別:[光電科學研究所] 博碩士論文

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