雷射直寫灰階光罩之製作

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題名:	雷射直寫灰階光罩之製作
作者:	張子斌;Tz-Bin Chang
貢獻者:	光電科學研究所
關鍵詞:	灰階光罩;Gray Level Mask;LDW Glass
日期:	2002-06-27
上傳時間:	2009-09-22 10:26:19 (UTC+8)
出版者:	國立中央大學圖書館
摘要:	繞射式光學元件為了要提昇效率，會將元件製作成多位階(Multiple Level)的形式。傳統的做法，會用多片不同的光罩，經過多次曝光、顯影與蝕刻的步驟，將元件製作出來。但這個過程過於繁複，容易造成製作上的困難與誤差。然而灰階光罩(Gray Level Mask)技術改進了製作方式。利用灰階光罩，只需一次的曝光、顯影與蝕刻步驟，即可做出高效率的繞射式光學元件。本研究討論了雷射直寫玻片(Laser Direct Write Glass，LDW Glass)，這是一種利用雷射光束寫入灰階圖案的玻璃片，用來製作灰階光罩。於本論文中，用波長為442nm與532nm的雷射當作光源，以顯微鏡物鏡(NA=0.1、0.25、0.4)聚焦寫入玻片。量測了玻片之穿透率譜線以及不同顯微鏡物鏡之聚焦效果，最小光點大小約2µm。測試了雷射寫入光強、時間、速度與玻片穿透率之間的關係。製作出光柵之灰階光罩，並成功製作出表面起伏連續變化的閃耀式光柵。其中週期分別為46µm與15µm，品質因子(Quality Factor)為0.9與0.83。並以光學顯微鏡，電子式顯微鏡，原子力顯微鏡來觀測元件，加以印證灰階光罩技術的成果。
顯示於類別:	[光電科學研究所] 博碩士論文

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