中大機構典藏-NCU Institutional Repository-提供博碩士論文、考古題、期刊論文、研究計畫等下載:Item 987654321/75224
English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文笔数/总笔数 : 80990/80990 (100%)
造访人次 : 42715766      在线人数 : 1435
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜寻范围 查询小技巧:
  • 您可在西文检索词汇前后加上"双引号",以获取较精准的检索结果
  • 若欲以作者姓名搜寻,建议至进阶搜寻限定作者字段,可获得较完整数据
  • 进阶搜寻


    jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/75224


    题名: 真空鍍膜監控法之研究;Research of Thin Film Monitoring on Vacuum Deposition
    作者: 林迺翔;Lin, Nai-xiang
    贡献者: 光電科學與工程學系
    关键词: 光學監控;鍍膜;電子槍;optical monitoring;deposition;e-gun
    日期: 2017-08-25
    上传时间: 2017-10-27 17:20:40 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學
    摘要: 現今光學鍍膜科技對於光電產業十分重要,在許多精密光學元件上,光學薄膜都是不可或缺的部份。在鍍膜過程中為了鍍出符合設計的薄膜,提高產品的良率,監控法是十分必要的。
    本文採用反射係數軌跡監控法,概因反射係數監控法,不論鍍製何種膜堆,皆有一清楚之停鍍點,可以有效幫助停鍍點的判斷,且應用範圍廣泛,不因膜堆設計不同而使停鍍點不明確。本文選擇鍍製抗反射膜,即是為了驗證反射係數監控法之泛用性。同時實驗使用機台為一開發中之鍍膜機,若是可成功鍍製抗反射膜,即表示該機台可於市售之鍍膜機相比較。
    由實驗結果得知,反射係數軌跡法鍍製之抗反射膜平均穿透率為95.0%,與設計相比較誤差為0.05%,最大標準差為1.33%。
    本文的光譜資訊可於真空腔體中量測,因反射係數軌跡監控法為直接監控的系統,可直接量測即時的光譜,即為當下的鍍膜成效,也表示在鍍完膜時,我們不需破腔體取片量測,就能得知成品的光學資訊。
    ;Nowadays, an optical deposition technology is quite important for an optoeletronic industry. Optical thin films are indispensable parts of the accurate optical element. To improve the quality of thin film, it is necessary for the optical monitoring method in a deposition process.
    In the study, reflection coefficient locus monitoring is used. The simulation analysis shows that the reflection coefficient monitoring diagram has more uniform monitoring sensitivity. Thus, it was used for providing good error compensation and easier termination judgment during the multilayer deposition.
    For comparison, we fabricated anti-reflective coatings using reflection coefficient locus monitoring. The result shows that the average transmittance of the anti-reflective coatings is 95.0%. The error compared with design is 0.05%. The maximum of the standard deviation is 1.33%.
    The real-time reflection coefficient of one single wavelength was acquired through the real-time broadband spectrum, and then it is direct monitoring system. An excellent performance of reflection coefficient monitoring for multilayer thin-film deposition has been demonstrated.
    显示于类别:[光電科學研究所] 博碩士論文

    文件中的档案:

    档案 描述 大小格式浏览次数
    index.html0KbHTML293检视/开启


    在NCUIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

    社群 sharing

    ::: Copyright National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 隱私權政策聲明