PQ:PMMA及相近photopolymer深度研究－從材料開發製成精進、VBG記錄理論模型與方程式建立到光學應用及光學元件製作研究;Advanced study on PQ:PMMA and relative photopolymers - From material fabrication, VBG recording theory equations to optical applications

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題名:	PQ:PMMA及相近photopolymer深度研究－從材料開發製成精進、VBG記錄理論模型與方程式建立到光學應用及光學元件製作研究;Advanced study on PQ:PMMA and relative photopolymers - From material fabrication, VBG recording theory equations to optical applications
作者:	鍾德元
貢獻者:	國立中央大學光電科學與工程學系
關鍵詞:	光聚合物;PQ:PMMA;體積全像布拉格光柵;反應擴散速率聯立微分方程式;二階光柵;雙折射;先進半導體雷射光學元件;零階波板;Photopolymer;PQ:PMMA;Volume Bragg grating (VBG);reaction-diffusion rate differential equations;2nd order VBG;birefringence;advanced diode laser optics;0th order waveplate
日期:	2021-12-21
上傳時間:	2021-12-23 13:39:10 (UTC+8)
出版者:	科技部
摘要:	本計劃研究對象為PQ:PMMA photopolymer，內容涵蓋化學、材料、光學、雷射，為一跨領域之研究計畫，研究面向從理論、模擬、實驗到製作，最終可製作光學元件以應用在不同光學雷射領域，學術上拓展了photopolymer的領域，實用上發展了更多有商業價值以PMMA為基礎的雷射與光學應用
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光電科學與工程學系] 研究計畫

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