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    題名: 以側向調製雷射光實現高階諧波之準相位匹配;Quasi-Phase Matching of High Harmonic Generation by Utilizing a Modulating Transverse Laser Beam
    作者: 劉耀澧
    貢獻者: 國立中央大學物理學系
    關鍵詞: 高階諧波;極紫外光;軟X光;準相位匹配;強場雷射與超快光學;High-harmonic generation (HHG);Extreme Ultraviolet (EUV);Soft X-ray;quasi-phase-matching (QPM);High-Field Physics and ultrafast optics
    日期: 2021-12-21
    上傳時間: 2021-12-23 14:06:54 (UTC+8)
    出版者: 科技部
    摘要: ASML是全球唯一可量產EUV微影設備之大廠，目前國際半導體大廠全都要靠該設備才能在奈米製程中導入EUV微影技術。我們的研究能大幅提昇高階諧波轉換效率以產生高強度短脈衝EUV與Soft X-ray。掌握EUV技術，台灣將不再依靠ASML，我們能夠自主研發與量產。於科技、科學、社會與經濟發展皆有益處。
    關聯: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    顯示於類別:[物理學系] 研究計畫

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