在銥(100)表面近室壓氧成長的氧化銥之結構和催化反應能力;Structures and Reactivity of Iridium Oxides Grown on Ir(100) Surface at near Ambient Oxygen Pressure

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題名:	在銥(100)表面近室壓氧成長的氧化銥之結構和催化反應能力;Structures and Reactivity of Iridium Oxides Grown on Ir(100) Surface at near Ambient Oxygen Pressure
作者:	國立中央大學物理學系
貢獻者:	國立中央大學物理學系
關鍵詞:	銥(100)單晶;氧化銥;室壓;催化模型系統;水分解;甲醇分解;超高真空;表面量測;Iridium oxides;Ir(100) single crystal;ambient pressure;UHV;catalytic model system;methanol decomposition;water dissociation;surface probe measurements
日期:	2022-07-26
上傳時間:	2022-07-27 11:02:39 (UTC+8)
出版者:	科技部
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[物理學系] 研究計畫

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