English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 80990/80990 (100%)
造訪人次 : 43088247      線上人數 : 1186
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/9112


    題名: 氮化鎵異質結構場效電晶體製作與特性分析
    作者: 許宏造;Hong-Zhau Xu
    貢獻者: 電機工程研究所
    關鍵詞: 氮化鎵;異質結構場效電晶體;小訊號等效電路模型
    日期: 2001-07-13
    上傳時間: 2009-09-22 11:41:19 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 本論文主要研究內容在於氮化鎵通道摻雜場效電晶體的製作與量測。藉由電晶體的直流量測,整理出撞擊游離係數對電場的關係,以得到氮化鎵崩潰電場強度。而在電晶體特性量測方面,包括直流、高頻與功率電晶體的功率特性。在直流量測中,發現了存在於電晶體的陷井(trap)所造成的電流坍塌現象(current collapse)。在功率電晶體的量測方面,試著分析電流坍塌現象對電晶體影響的機制,並在量測不同閘極寬度的電晶體同時,提出熱效應(self-heating)的問題。對於sapphire基板所造成的熱效應問題,藉由元件隨環境溫度改變而變化的直流特性,計算出sapphire基板熱阻值。並針對本論文中所使用到的功率電晶體,建立其小訊號等效電路模型,利用“Cold FET”量測方式萃取出外部寄生元件參數,並由矩陣與數學運算得到與元件偏壓條件有關的內部本質元件參數,最後完成模型建立,並與實際高頻量測結果比較。
    顯示於類別:[電機工程研究所] 博碩士論文

    文件中的檔案:

    檔案 大小格式瀏覽次數


    在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    社群 sharing

    ::: Copyright National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 隱私權政策聲明