English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 80990/80990 (100%)
造訪人次 : 42685506      線上人數 : 1584
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/30174


    題名: An atmospheric-pressure plasma process for C2F6 removal
    作者: Chang,MB;Yu,SJ
    貢獻者: 環境工程研究所
    關鍵詞: ABATEMENT;EMISSIONS;CF4
    日期: 2001
    上傳時間: 2010-07-06 16:13:48 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: Perfluorocompounds (PFCs) are widely used in the semiconductor industry for plasma etching and chemical vapor deposition (CVD). They are relatively inert gases that intensely absorb infrared radiation and, therefore, aggravate the greenhouse effect. A ben
    關聯: ENVIRONMENTAL SCIENCE & TECHNOLOGY
    顯示於類別:[環境工程研究所 ] 期刊論文

    文件中的檔案:

    檔案 描述 大小格式瀏覽次數
    index.html0KbHTML501檢視/開啟


    在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    社群 sharing

    ::: Copyright National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 隱私權政策聲明