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    題名: 射頻濺鍍紫外光氧化薄膜之研究
    作者: 劉旻忠;Ming-Chou Liu
    貢獻者: 光電科學研究所
    關鍵詞: 射頻濺鍍;紫外光氧化薄膜;氧化鋁;二氧化矽;Rf-sputtering;UV-coating;Al2o3;Sio2
    日期: 2000-07-06
    上傳時間: 2009-09-22 10:24:13 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 本論文是使用多靶式磁控射頻濺鍍系統，濺鍍光學薄膜，著眼於Al2O3和SiO2兩種材料的濺鍍，主要探討不同真空度下波長在300nm∼400nm紫外光區其穿透率、折射率和消光係數等光學性質，另外對力學特性如薄膜應力、表面微觀結構如表面粗糙度等，以及薄膜的結晶性作研究和討論，並利用此兩種材料作光學薄膜的疊加設計與應用。希望能在紫外光區波長300nm~400nm 中製造出好的氧化薄膜，以便提供衛星遙測於紫外光區的光學技術應用。 none
    顯示於類別:[光電科學研究所] 博碩士論文

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