製程參數對薄膜應力影響之研究

Please use this identifier to cite or link to this item: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/6655

Title:	製程參數對薄膜應力影響之研究
Authors:	黃文雄;Wen-Xiong Haung
Contributors:	光電科學研究所
Date:	2001-06-20
Issue Date:	2009-09-22 10:25:03 (UTC+8)
Publisher:	國立中央大學圖書館
Abstract:	製鍍薄膜後，薄膜內存在應力，直接影響到薄膜元件的良率、穩定性，過大的薄膜應力對薄膜的附著性有不好的影響，過大的張應力使得薄膜破裂：反之，使得薄膜起皺。所以有效的控制製程後薄膜的剩餘應力是非常重要的。本文旨在製鍍良好光學特性的理想薄膜，觀察製程參數對薄膜應力的影響，期望能從中尋找應力較小的理想薄膜。再比較不同製程方法製鍍的薄膜，薄膜應力的大小。 none
Appears in Collections:	[Graduate Institute of Optics and Photonics] Electronic Thesis & Dissertation

Files in This Item:

File	Size	Format

社群 sharing