製程參數對薄膜應力影響之研究

NCU Institutional Repository > 理學院 > 光電科學研究所 > 博碩士論文 > Item 987654321/6655

jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/6655

题名:	製程參數對薄膜應力影響之研究
作者:	黃文雄;Wen-Xiong Haung
贡献者:	光電科學研究所
日期:	2001-06-20
上传时间:	2009-09-22 10:25:03 (UTC+8)
出版者:	國立中央大學圖書館
摘要:	製鍍薄膜後，薄膜內存在應力，直接影響到薄膜元件的良率、穩定性，過大的薄膜應力對薄膜的附著性有不好的影響，過大的張應力使得薄膜破裂：反之，使得薄膜起皺。所以有效的控制製程後薄膜的剩餘應力是非常重要的。本文旨在製鍍良好光學特性的理想薄膜，觀察製程參數對薄膜應力的影響，期望能從中尋找應力較小的理想薄膜。再比較不同製程方法製鍍的薄膜，薄膜應力的大小。 none
显示于类别:	[光電科學研究所] 博碩士論文

文件中的档案:

档案	大小	格式	浏览次数

在NCUIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

社群 sharing